6/8《薄膜製程方法的設計理論及其靶材的選擇(含實作)》開始報名囉~
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課程名稱:薄膜製程方法(PECVD和Sputter methods)的設計理論及其靶材的選擇(含實作) |
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大綱:
1.透明導電層與靶材的關係
2.透明導電層對太陽電池的影響
3.CVD與濺鍍製程技術原理
4.濺鍍製程設備介紹與操作
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授課日期:2011/10/10 |
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報名期限:2011-12-31 |
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上課地點:南科園區 |
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班次:E03 |
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備註:
※感謝學員踴躍報名,目前報名人數已滿。
※實作地點:成大微奈米中心實驗室 5樓會議室
※實作日期:6/23(三)、6/24(四)、6/29(二)及6/30(三)18:30~21:30(因本實作課程採5人一組小班制,於開課後開放線上登記實作梯次,請參訓學員至微奈米中心網頁自由線上挑選實作日期,如遇不夠人數本會保有調整梯次及日期權利,請學員隨時注意網頁最新消息!)
※課程學習效益(完訓後學員可獲得之技能):瞭解化學與物理沉積技術之差異,並深入習得濺鍍與蒸鍍沉積之原理,亦能藉由濺鍍設備之實作課程更瞭解其作動原理
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