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[業界推薦] 十大熱門產業之一 LED磊晶與製程課程，12/29即將開課！

LED 磊晶與製程課程

12/29號即將開課，可選擇單一章節報名，全部課程共計24HR，

原價3600元，特優惠3000元，學生證享2400元優惠!
LED照明科技研究中心http://led.ee.ncku.edu.tw就LED磊晶原物料、單晶基板、各波段螢光粉材料配製到散熱基板與透鏡材料選擇等各階段材料，不同材料之選擇與適應性皆會直接影響所製做出來高功率LED的壽命、光電特性與穩定性，因此白光LED元件各階段材料選擇與分析判斷實為一重要之環節。因此在此系列課程將分別針對LED上、中、下游各階段，講授所需要之材料選擇與如何作正確的分析，其內容包括：磊晶原物料、螢光粉材料、散熱材料、各種膠體選擇、金屬電極材料與相關的分析儀器原理與分析方法。

開課名稱章節/授課老師授課內容日期/時間地點

LED基本特性與原理半導體特性與P-N接面(6 hr)尤信介/成功大學電機系尖端光電科技中心研究助理教授 u 摻雜、能帶簡介、載子濃度、載子遷移、載子複合、電阻、晶格、直接/間接能隙等。u 內建電場、空乏區、整流特性、電流機制、電容特性、異質接面、能帶結構、順向/逆向偏壓。 2010/12/29-30（星期三、四）18:30~21:30 成功大學電機系地下一樓迅慧講堂

發光區結構與光學設計(6 hr)林俊良/崑山科技大學光電所助理教授 u 同質接面、異質接面、雙異質接面、量子井結構。u 折射係數、全反射損耗、光取出技術、反射鏡、出光角、光子晶體、具圖案基板、表面/側壁粗化。u 固態照明之未來市場。u 不同操作模式之LED所對應之照明產品（定電壓、定電流、脈衝調變、AC LED等）。 2011/1/5-6（星期三、四）18:30~21:30

LED磊晶技術介紹與探討 MOCVD磊晶技術與相關應用分析介紹(6 hr)賴韋志成功大學光電系副教授 u MOCVD磊晶：載氣、反應前驅物、腔體氣流、加熱與溫度校正、壓力、V/III比、反應機制。u 與磊晶層之介紹：緩衝層、晶格匹配、臨界厚度、橫向成長、基板、摻雜、共摻雜、均勻度。u 及時監測系統：光反射光譜分析、光干涉、質譜儀。u 品質檢測。光激光譜(PL)、X光繞射光譜、掃描電子顯微鏡、穿透式電子 1/12-13, 2011（星期三、四）18:30~21:30 成功大學電機系地下一樓迅慧講堂

LED製程技術介紹曝光微影製程與電極之製作晶粒切割與特性量測(6 hr)鄭樵陽成功大學電機系尖端光電科技中心博士後研究員 u 曝光微影與蝕刻：旋轉塗佈、光罩設計、光阻種類、曝光設備與光源、相關參數設計；乾式蝕刻、濕式蝕刻、光輔助蝕刻。u 電極與介電材料沉積：電極設計、電流分散與阻障、真空蒸鍍、濺鍍、無電鍍、電鍍；介電質材料沉積方法介紹（CVD、濺鍍、溶液-凝膠）。u 晶粒切割與基本封裝介紹：研磨拋光、劃線、切割。雷射、鑽石輪刀。u 晶粒特性測試：點測、ESD、波長、I-V、cd值 1/19-20, 2011（星期三、四）18:30~21:30 成功大學電機系地下一樓迅慧講堂

★報名專線(06)2384278#813 黃詩芸小姐 ★填寫報名表傳真至(06)2381422

或e-mail：irene1361@aasip.org.tw ★

****可獲頒培訓結業證書外，尚可獲得終身學習護照上課時數之登錄

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開課名稱	章節/授課老師	授課內容	日期/時間	地點
LED基本特性與原理	半導體特性與P-N接面(6 hr)尤信介/成功大學電機系尖端光電科技中心研究助理教授	u 摻雜、能帶簡介、載子濃度、載子遷移、載子複合、電阻、晶格、直接/間接能隙等。u 內建電場、空乏區、整流特性、電流機制、電容特性、異質接面、能帶結構、順向/逆向偏壓。	2010/12/29-30（星期三、四）18:30~21:30	成功大學電機系地下一樓迅慧講堂
發光區結構與光學設計(6 hr)林俊良/崑山科技大學光電所助理教授	u 同質接面、異質接面、雙異質接面、量子井結構。u 折射係數、全反射損耗、光取出技術、反射鏡、出光角、光子晶體、具圖案基板、表面/側壁粗化。u 固態照明之未來市場。u 不同操作模式之LED所對應之照明產品（定電壓、定電流、脈衝調變、AC LED等）。	2011/1/5-6（星期三、四）18:30~21:30
LED磊晶技術介紹與探討	MOCVD磊晶技術與相關應用分析介紹(6 hr)賴韋志成功大學光電系副教授	u MOCVD磊晶：載氣、反應前驅物、腔體氣流、加熱與溫度校正、壓力、V/III比、反應機制。u 與磊晶層之介紹：緩衝層、晶格匹配、臨界厚度、橫向成長、基板、摻雜、共摻雜、均勻度。u 及時監測系統：光反射光譜分析、光干涉、質譜儀。u 品質檢測。光激光譜(PL)、X光繞射光譜、掃描電子顯微鏡、穿透式電子	1/12-13, 2011（星期三、四）18:30~21:30	成功大學電機系地下一樓迅慧講堂
LED製程技術介紹	曝光微影製程與電極之製作晶粒切割與特性量測(6 hr)鄭樵陽成功大學電機系尖端光電科技中心博士後研究員	u 曝光微影與蝕刻：旋轉塗佈、光罩設計、光阻種類、曝光設備與光源、相關參數設計；乾式蝕刻、濕式蝕刻、光輔助蝕刻。u 電極與介電材料沉積：電極設計、電流分散與阻障、真空蒸鍍、濺鍍、無電鍍、電鍍；介電質材料沉積方法介紹（CVD、濺鍍、溶液-凝膠）。u 晶粒切割與基本封裝介紹：研磨拋光、劃線、切割。雷射、鑽石輪刀。u 晶粒特性測試：點測、ESD、波長、I-V、cd值	1/19-20, 2011（星期三、四）18:30~21:30	成功大學電機系地下一樓迅慧講堂