6/24(三)【100%補助】薄膜製程方法(PECVD和Sputter methods)的設計理論及其靶材的選擇(含實作)
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課程名稱：【已額滿】薄膜製程方法(PECVD和Sputter methods)的設計理論及其靶材的選擇(含 |
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大綱：
科技部南部科學工業園區管理局
104年專業及技術人才培訓暨推動產學合作計畫
1.薄膜製程方法
2.PECVD和Sputter methods的設計理論
3.其靶材的選擇與實作
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授課日期：理論課:6/24(三)、7/1(三)、7/8(三) 實作課:7/15(三) 18:30~21:30 |
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報名期限：2015-06-08 |
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上課地點：理論課:南科育成中心302教室 實作課:成功大學微奈米中心 |
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老師：翁敏航組長/葉昌鑫博士 |
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收費標準：保證金2000元(恕不收刷卡及禮卷) |
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時數：12 |
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類別：【南管局100%補助】專技人培-104年光電 |
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開班人數：20 |
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班次：E05 |
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備註：
n 課程特色/效益
本課程重金租借成功大學微奈米中心實驗室機台，希望讓學員藉由實際操作了解薄膜製程、PECVD和Sputter methods的設計及其靶材的選擇。機會難得, 敬請把握!
●報名後收到審核通過信，請於收到信件五日內完成繳費，開班前未繳費者恕無法提供上課講義!
政府補助園區在職進修，全額免費，報名方式，先繳保證金，出席達80%且通過評量測驗，取得結業證書後，全額歸還保證金!
保證金繳交：(恕無法使用禮卷及線上刷卡)
(1)課程時數在10hr以下者，保證金1000元，
(2)課程時數在10hr以上者，保證金2000元。
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